三星|三星打造17nm LPV工艺：28nm＋14nm二合一
半导体工艺不只是尖端的7/5/3/2nm ， 因为还有很多芯片并不需要太先进的制程 ， 它们往往不太复杂 ， 但对成本非常敏感 。
今天 ， 三星宣布推出全新的17LPV 17nm工艺 ， 意为Low Power Value 。
其实 ， 它就是28nm工艺的进化版 ， 融合了28nm BEOL后端工序、14nm FEOL前端工序 ， 也就是在28nm节点的基础上 ， 加入了14nm FinFET立体晶体管 ， 只需不高的成本 ， 就能享受后者的能效优势 。
三星称 ， 17nm LPV工艺相比传统28nm ， 芯片面积可缩小43％ ， 可以带来39％的性能提升或者49％的能效提升 。
三星17nm LPV工艺的量产时间没有说 ， 但三星已经宣布第一个服务对象是ISP图像信号处理器 ， 属于三星自家的CMOS传感器产品线 。
此外 ， 三星还打造了14nm LPU工艺 ， 意味Low Power Ultimate ， 但未透露详情 ， 可能也是28nm BEOL加上14nm FEOL 。
【三星|三星打造17nm LPV工艺：28nm＋14nm二合一】
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